Support de plaquette pour le processus de gravure ICP

Le support de plaquette de Semicorex pour le processus de gravure ICP est le choix idéal pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles de flux de gaz laminaires optimaux pour des résultats cohérents et fiables.

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Description du produit

Choisissez le support de plaquette de Semicorex pour le processus de gravure ICP pour des performances fiables et constantes dans les processus de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance à l'oxydation à haute température, une pureté élevée et une résistance à la corrosion aux réactifs acides, alcalins, salins et organiques.
Notre support de plaquette pour le processus de gravure ICP est conçu pour obtenir le meilleur modèle de flux de gaz laminaire, garantissant ainsi l'uniformité du profil thermique. Cela permet d'éviter toute contamination ou diffusion d'impuretés, garantissant ainsi une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre support de plaquette pour le processus de gravure ICP.

Paramètres du support de plaquette pour le processus de gravure ICP

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC
SiC-CVD Properties
Structure cristalline	Phase β du FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille des grains	µm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J kg-1 K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force de flexion	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (courbure 4pt, 1300℃)	430
Expansion thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques du support de plaquette pour le processus de gravure ICP

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire

- Garantir la régularité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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