Plasma à couplage inductif (ICP)

Vous avez besoin d'un porte-plaquettes capable de gérer des environnements chimiques agressifs à haute température ? Ne cherchez pas plus loin que le suscepteur revêtu de carbure de silicium de Semicorex pour plasma à couplage inductif (ICP). Nos supports sont dotés d'un revêtement en cristal SiC fin qui offre une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre suscepteur SiC pour plasma à couplage inductif (ICP).

Paramètres du suscepteur pour le plasma à couplage inductif (ICP)

Caractéristiques du suscepteur revêtu de carbure de silicium pour plasma à couplage inductif (ICP)

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire

- Garantir l'uniformité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés