Sucepteurs du MOCVD

Les suscepteurs Semicorex MOCVD sont spécialement conçus pour supporter les paysages à haute température et résister aux régimes chimiques rigoureux souvent utilisés dans les processus de production de plaquettes. Grâce à une ingénierie de précision, ces composants sont conçus pour répondre aux exigences strictes des systèmes de réacteurs épitaxiaux. La composition de nos suscepteurs MOCVD, constitués de carbure de silicium (SiC) recouvert de graphite de qualité supérieure, offre non seulement une robustesse dans des conditions thermiques et corrosives extrêmes, mais garantit également une répartition uniforme de la chaleur, essentielle au maintien d'une qualité constante lors du dépôt de film épitaxial.

De plus, les propriétés thermiques impressionnantes de nos suscepteurs MOCVD permettent une gestion rapide et uniforme de la température pendant la croissance des semi-conducteurs, optimisant ainsi le processus de production. Leur résistance aux températures élevées, à l'oxydation et à la corrosion garantit un fonctionnement fiable même dans les paramètres opérationnels les plus difficiles.

De plus, les suscepteurs MOCVD sont conçus en mettant l’accent sur l’uniformité, ce qui est essentiel pour la synthèse de substrats monocristallins. Le niveau de planéité atteint est indispensable pour obtenir une croissance monocristalline supérieure sur la surface de la tranche.

Chez Semicorex, notre passion pour surpasser les références de l'industrie n'a d'égal que notre engagement envers la rentabilité pour nos partenaires. Nous nous efforçons de fournir des produits tels que les suscepteurs MOCVD qui non seulement répondent mais anticipent les besoins changeants de la fabrication de semi-conducteurs, garantissant ainsi que vos opérations sont équipées des meilleurs outils disponibles.