Supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs

Les supports de plaquettes Semicorex MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs sont un support haut de gamme conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Son matériau de haute pureté garantit un profil thermique uniforme et un flux de gaz laminaire, produisant ainsi des plaquettes de haute qualité.

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Description du produit

Nos supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs sont très purs, fabriqués par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température, garantissant l'uniformité et la cohérence du produit. Il est également très résistant à la corrosion, avec une surface dense et des particules fines, ce qui le rend résistant aux acides, aux alcalis, au sel et aux réactifs organiques. Sa résistance à l'oxydation à haute température assure une stabilité à des températures élevées jusqu'à 1600°C.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur nos supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs.

Paramètres des supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure cristalline	Phase β du FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille des grains	µm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J kg-1 K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force de flexion	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (courbure 4pt, 1300℃)	430
Expansion thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques du suscepteur en graphite revêtu de SiC pour MOCVD

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire
- Garantir la régularité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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