Supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs

Semicorex MOCVD Wafer Carriers for Semiconductor Industry est un support haut de gamme conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Son matériau de haute pureté assure un profil thermique uniforme et un schéma d'écoulement de gaz laminaire, offrant des tranches de haute qualité.

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Description du produit

Nos supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs sont très purs, fabriqués par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température, garantissant l'uniformité et la cohérence du produit. Il est également très résistant à la corrosion, avec une surface dense et de fines particules, ce qui le rend résistant aux acides, aux alcalis, au sel et aux réactifs organiques. Sa résistance à l'oxydation à haute température assure une stabilité à haute température jusqu'à 1600°C.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur nos supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs.

Paramètres des supports de plaquettes MOCVD pour l'industrie des semi-conducteurs

Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure en cristal	Phase β FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille d'un grain	μm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J·kg-1 ·K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force Felexurale	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (pli 4pt, 1300â)	430
Dilatation Thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques du suscepteur en graphite revêtu de SiC pour MOCVD

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire
- Garantir l'uniformité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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