Plate-forme satellite en graphite MOCVD à revêtement SiC

Semicorex est un fournisseur et fabricant réputé de plate-forme satellite en graphite MOCVD à revêtement SiC. Notre produit est spécialement conçu pour répondre aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs en matière de croissance de la couche épitaxiale sur la puce. Le produit est utilisé comme plaque centrale dans MOCVD, avec une conception en forme d'engrenage ou d'anneau. Il présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements extrêmes.

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Description du produit

L'une des caractéristiques les plus importantes de notre plate-forme satellite en graphite MOCVD à revêtement SiC est sa capacité à garantir un revêtement sur toutes les surfaces, en évitant le décollement. Il présente une résistance à l'oxydation à haute température, garantissant sa stabilité même à des températures élevées allant jusqu'à 1 600 °C. Le produit est fabriqué avec une grande pureté par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température. Il a une surface dense avec de fines particules, ce qui le rend très résistant à la corrosion causée par les acides, les alcalis, le sel et les réactifs organiques.
Notre plate-forme satellite en graphite MOCVD revêtue de SiC est conçue pour garantir le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire, garantissant ainsi l'uniformité du profil thermique. Il empêche toute contamination ou diffusion d'impuretés, garantissant une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce. Nous proposons des prix compétitifs pour notre produit, le rendant accessible à de nombreux clients. Notre équipe se consacre à fournir un excellent service client et une excellente assistance. Nous couvrons de nombreux marchés européens et américains et nous nous efforçons de devenir votre partenaire à long terme en fournissant une plate-forme satellite en graphite MOCVD à revêtement SiC fiable et de haute qualité. Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre produit.

Paramètres de la plate-forme satellite en graphite MOCVD à revêtement SiC

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure cristalline	Phase β du FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille des grains	µm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J kg-1 K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force de flexion	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (courbure 4pt, 1300℃)	430
Expansion thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques de la plate-forme satellite en graphite MOCVD à revêtement SiC

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire
- Garantir la régularité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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