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Produits
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Chuck sous vide en carbure de silicium
Le vide du carbure de silicium semicoréx est une solution de manipulation de plaquettes haute performance fabriquée à partir de carbure de silicium poreux. Il est spécifiquement conçu pour l'adsorption de vide des plaquettes de semi-conducteur pendant les processus critiques tels que le montage (cire), l'amincissement, la dédie, le nettoyage, les déshabilles et le recuit thermique rapide (RTA). Choisissez semicoréx pour la pureté des matériaux inégalés, la précision dimensionnelle et les performances fiables dans des environnements semi-conducteurs exigeants. *
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Chauffage à canne à graphite
Le chauffage à tige de graphite semicoréx est un élément de chauffage haute performance conçu pour une génération uniforme à haute température à l'intérieur des fours à vide. Choisissez Semicorex pour son expertise dans les solutions de graphite de précision, offrant une stabilité thermique supérieure et des performances durables adaptées à vos besoins industriels. *
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Tige d'électrode en graphite
Les tiges d'électrode en graphite semicoréx sont des composants de graphite de haute pureté utilisés comme éléments de chauffage de base dans les fours à vide. Choisissez semicorex pour la qualité des matériaux inégalés, l'usinage de précision et les performances fiables dans des environnements sous vide à haute température. *
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Alumine Robot Bras
Le bras de robot en alumine Semicorex est un composant en céramique haute performance conçu pour une manipulation précise de la chariot dans la fabrication de semi-conducteurs. Sa résistance supérieure, son isolation et sa stabilité thermique le rendent idéal pour exiger des environnements d'automatisation de salle blanche. *
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Effecteur final en céramique en alumine
Semicorex Alumina Ceramic End End Effecteur est un composant conçu de précision spécialement conçu pour une manipulation fiable et sans contamination dans la fabrication de semi-conducteurs et les applications connexes. *
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Chuck sic poreux
Le mandrin SIC poreux semicorex est un mandrin sous vide en céramique haute performance conçu pour une adsorption de tranche sécurisée et uniforme dans le traitement des semi-conducteurs. Sa structure micro-puissante d'ingénierie garantit une excellente distribution de vide, ce qui le rend idéal pour les applications de précision. *
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