Semicorex CVD SiC Shower Head is a core component used in semiconductor etching equipment, serving as both an electrode and a conduit for etching gases. Choose Semicorex for its superior material control, advanced processing technology, and reliable, long-lasting performance in demanding semiconductor applications.*
En savoir plusenvoyer une demandeLa pomme de douche métallique, connue sous le nom de plaque de distribution de gaz ou pomme de douche à gaz, est un composant essentiel largement utilisé dans les processus de fabrication de semi-conducteurs. Sa fonction principale est de répartir uniformément les gaz dans une chambre de réaction, garantissant ainsi que les matériaux semi-conducteurs entrent en contact uniforme avec le processus. gaz.**
En savoir plusenvoyer une demandeLa pièce d'étanchéité en céramique Semicorex SiC témoigne des prouesses de pointe en matière de science et d'ingénierie des matériaux, conçue pour répondre aux exigences rigoureuses des applications d'étanchéité mécanique haute performance dans une variété d'industries.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe réchauffeur MOCVD de Semicorex est un composant très avancé et méticuleusement conçu qui offre une multitude d'avantages, notamment une pureté chimique exceptionnelle, une efficacité thermique, une conductivité électrique, une émissivité élevée, une résistance à la corrosion, une inoxydabilité et une résistance mécanique.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe suscepteur Semicorex MOCVD 3x2'' développé par Semicorex représente le summum de l'innovation et de l'excellence en ingénierie, spécialement conçu pour répondre aux exigences complexes des processus de fabrication de semi-conducteurs contemporains.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe suscepteur de plaquette de revêtement Semicorex TaC est un plateau en graphite recouvert de carbure de tantale, utilisé dans la croissance épitaxiale du carbure de silicium pour améliorer la qualité et les performances des plaquettes. Choisissez Semicorex pour sa technologie de revêtement avancée et ses solutions durables qui garantissent des résultats d'épitaxie SiC supérieurs et une durée de vie prolongée du suscepteur.*
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