La plaque support de gravure Semicorex PSS pour semi-conducteurs est spécialement conçue pour les environnements de nettoyage chimique à haute température et difficiles requis pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation de plaquettes. Notre plaque support de gravure PSS ultra-pure pour semi-conducteurs est conçue pour supporter les tranches pendant les phases de dépôt de couches minces comme les suscepteurs MOCVD et d'épitaxie, les plates-formes pancake ou satellite. Notre support revêtu de SiC présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur et une conductivité thermique élevée. Nous fournissons des solutions rentables à nos clients et nos produits couvrent de nombreux marchés européens et américains. S......
En savoir plusenvoyer une demandeLes supports de plaquettes utilisés dans le traitement de la croissance épixiale et de la manipulation des plaquettes doivent résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif. Support de gravure PSS avec revêtement SiC Semicorex conçu spécifiquement pour ces applications exigeantes d'équipement d'épitaxie. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
En savoir plusenvoyer une demandeLe suscepteur à baril revêtu de SiC Semicorex pour la croissance épitaxiale LPE est un produit haute performance conçu pour fournir des performances constantes et fiables sur une période prolongée. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épitaxiales de haute qualité sur des puces de tranche. Sa personnalisation et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
En savoir plusenvoyer une demandeLe système Semicorex Barrel Susceptor Epi est un produit de haute qualité qui offre une adhérence supérieure du revêtement, une pureté élevée et une résistance à l'oxydation à haute température. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales sur des puces de tranche. Sa rentabilité et sa personnalisation en font un produit hautement compétitif sur le marché.
En savoir plusenvoyer une demandeLe système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE) Semicorex est un produit innovant qui offre d'excellentes performances thermiques, un profil thermique uniforme et une adhérence supérieure du revêtement. Sa haute pureté, sa résistance à l'oxydation à haute température et sa résistance à la corrosion en font un choix idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses options personnalisables et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
En savoir plusenvoyer une demandeLe dépôt épitaxial CVD Semicorex dans un réacteur baril est un produit très durable et fiable pour la croissance de couches épixiales sur des puces de plaquettes. Sa résistance à l’oxydation à haute température et sa grande pureté le rendent adapté à une utilisation dans l’industrie des semi-conducteurs. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales de haute qualité.
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