Supports de plaquettes avec revêtement SiC

Les supports de plaquettes Semicorex avec revêtement SiC présentent une stabilité thermique et une conductivité exceptionnelles, essentielles pour maintenir des températures constantes pendant les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Cela garantit une répartition uniforme de la chaleur sur le substrat, ce qui est essentiel pour obtenir des caractéristiques de film mince et de revêtement de haute qualité.

Les supports de plaquettes avec revêtement SiC sont fabriqués selon des normes rigoureuses, garantissant une épaisseur et une surface lisses uniformes. Cette précision est essentielle pour obtenir des taux de dépôt et des propriétés de film cohérents sur plusieurs tranches.

Le revêtement SiC agit comme une barrière imperméable, empêchant la diffusion des impuretés du suscepteur vers la plaquette. Cela minimise le risque de contamination, essentiel à la production de dispositifs semi-conducteurs de haute pureté. La durabilité des supports de plaquettes Semicorex avec revêtement SiC réduit la fréquence de remplacement des suscepteurs, ce qui entraîne une baisse des coûts de maintenance et une réduction des temps d'arrêt dans les opérations de fabrication de semi-conducteurs.

Les supports de plaquettes Semicorex avec revêtement SiC peuvent être personnalisés pour répondre aux exigences spécifiques du processus, notamment les variations de taille, de forme et d'épaisseur de revêtement. Cette flexibilité permet d'optimiser le suscepteur pour répondre aux exigences uniques des différents processus de fabrication de semi-conducteurs. Les options de personnalisation permettent le développement de conceptions de suscepteurs adaptées à des applications spécialisées, telles que la fabrication en grand volume ou la recherche et développement, garantissant des performances optimales pour des cas d'utilisation spécifiques.