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Plaque de support RTP revêtue de SiC pour la croissance épitaxiale

La plaque de support RTP revêtue de SiC Semicorex pour la croissance épitaxiale est la solution parfaite pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs. Avec ses suscepteurs en graphite de carbone de haute qualité et ses creusets en quartz traités par MOCVD à la surface du graphite, de la céramique, etc., ce produit est idéal pour la manipulation de plaquettes et le traitement de croissance épitaxiale. Le support revêtu de SiC assure une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, ce qui en fait un choix fiable pour le RTA, le RTP ou le nettoyage chimique agressif.

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Support RTP pour la croissance épitaxiale MOCVD

Le support Semicorex RTP pour la croissance épitaxiale MOCVD est idéal pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs, y compris la croissance épitaxiale et le traitement de manipulation de tranches. Les suscepteurs en graphite de carbone et les creusets en quartz sont traités par MOCVD à la surface du graphite, de la céramique, etc. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Voulez-vous acheter Graphite-Wafer-Tray avancé et durable ? Semicorex est certainement votre bon choix. Nous sommes reconnus comme l'un des fabricants et fournisseurs Graphite-Wafer-Tray les plus compétitifs en Chine. Nous fournissons également des emballages en vrac. Vous pouvez avoir besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins réels de votre région, vous pouvez nous laisser un message via les informations de contact sur la page Web. Nous invitons sincèrement les nouveaux et anciens clients à visiter notre usine pour consultation et négociation.