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Support RTP pour la croissance épitaxiale MOCVD

Le support Semicorex RTP pour la croissance épitaxiale MOCVD est idéal pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs, y compris la croissance épitaxiale et le traitement de manipulation de tranches. Les suscepteurs en graphite de carbone et les creusets en quartz sont traités par MOCVD à la surface du graphite, de la céramique, etc. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Système de gravure au plasma ICP

Le support revêtu de SiC de Semicorex pour le système de gravure au plasma ICP est une solution fiable et économique pour les processus de manipulation de tranches à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Nos supports sont dotés d'un revêtement en cristal SiC fin qui offre une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.

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Voulez-vous acheter SiC-Coated-Graphite-Carriers-for-Semiconductor avancé et durable ? Semicorex est certainement votre bon choix. Nous sommes reconnus comme l'un des fabricants et fournisseurs SiC-Coated-Graphite-Carriers-for-Semiconductor les plus compétitifs en Chine. Nous fournissons également des emballages en vrac. Vous pouvez avoir besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins réels de votre région, vous pouvez nous laisser un message via les informations de contact sur la page Web. Nous invitons sincèrement les nouveaux et anciens clients à visiter notre usine pour consultation et négociation.