Partie plate de revêtement sic

Le revêtement Semicorex SIC Partie plate est un composant graphite à revêtement SIC haute performance spécialement conçu pour le processus d'épitaxy SIC. Sa fonction principale est de faciliter la conduction uniforme du flux d'air et d'assurer une distribution de gaz cohérente pendant le stade de croissance épitaxial, ce qui en fait un composant indispensable dans la fabrication de semi-conducteurs sic. Le choix de Semicorex garantit une qualité supérieure et des solutions de précision conçues adaptées à l'industrie des semi-conducteurs.

Le revêtement SIC offre une résistance exceptionnelle aux températures élevées, à la corrosion chimique et à la déformation thermique, assurant des performances durables dans des environnements exigeants. La base de graphite améliore l'intégrité structurelle du composant, tandis que le revêtement SIC uniforme garantit une surface de haute pureté critique pour les processus d'épitaxie sensibles. Cette combinaison de matériaux fait de la partie plate du revêtement SIC une solution fiable pour réaliser des couches épitaxiales uniformes et optimiser l'efficacité globale de production.

L'excellente conductivité thermique et la stabilité du graphite offrent des avantages significatifs en tant que composant de l'équipement épitaxial. Cependant, l'utilisation de graphite pur seul peut entraîner plusieurs problèmes. Pendant le processus de production, les gaz corrosifs et les résidus métalliques-organiques peuvent provoquer une corrodation de la base de graphite et se détériorer, réduisant considérablement sa durée de vie. De plus, toute poudre de graphite qui tombe peut contaminer la puce, ce qui rend essentiel pour résoudre ces problèmes lors de la préparation de la base.

La technologie du revêtement peut atténuer efficacement ces problèmes en fixant la poudre de surface, en améliorant la conductivité thermique et en équilibrant la distribution de la chaleur. Cette technologie est vitale pour assurer la durabilité de la base de graphite. Selon l'environnement d'application et les exigences d'utilisation spécifiques, le revêtement de surface doit posséder les caractéristiques suivantes:

1. Densité élevée et couverture complète: la base de graphite fonctionne dans un environnement corrosives à haute température et doit être complètement couverte. Le revêtement doit être dense pour fournir une protection efficace.

2. Par conséquent, le processus de revêtement doit maintenir la planéité d'origine de la base, garantissant que la surface du revêtement est uniforme.

3. Cette amélioration garantit que le revêtement reste intact même après avoir subi des cycles thermiques élevés et à basse température.

4. Conductivité thermique élevée: pour une croissance optimale des puces, la base de graphite doit fournir une distribution de chaleur rapide et uniforme. Par conséquent, le matériau de revêtement devrait avoir une conductivité thermique élevée.

5. Point de fusion élevé et résistance à l'oxydation et à la corrosion: le revêtement doit être capable de fonctionner de manière fiable dans des environnements à haute température et corrosifs.

En se concentrant sur ces caractéristiques clés, la longévité et les performances des composants à base de graphite dans l'équipement épitaxial peuvent être considérablement améliorées.

Avec des techniques de fabrication avancées, Semicorex offre des conceptions personnalisées pour répondre aux exigences de processus spécifiques. La partie plate du revêtement SIC est rigoureusement testée pour la précision dimensionnelle et la durabilité, reflétant l'engagement des semi-orecorex à l'excellence dans les matériaux semi-conducteurs. Que ce soit utilisé dans la production de masse ou la recherche, ce composant garantit un contrôle précis et un rendement élevé dans les applications d'épitaxy SIC.