Suscepteur SiC pour gravure ICP

Suscepteur SiC pour gravure ICP

Le suscepteur Semicorex SiC pour ICP Etch est fabriqué en mettant l’accent sur le maintien de normes élevées de qualité et de cohérence. Les processus de fabrication robustes utilisés pour créer ces suscepteurs garantissent que chaque lot répond à des critères de performance stricts, fournissant ainsi des résultats fiables et cohérents en matière de gravure de semi-conducteurs. De plus, Semicorex est équipé pour offrir des délais de livraison rapides, ce qui est crucial pour suivre le rythme des demandes de rotation rapide de l'industrie des semi-conducteurs, garantissant que les délais de production sont respectés sans compromettre la qualité. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des produits de haute performance. Suscepteur SiC pour ICP Etch qui allie qualité et rentabilité.**

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Description du produit

Le suscepteur Semicorex SiC pour ICP Etch est réputé pour son excellente conductivité thermique, qui permet une distribution rapide et uniforme de la chaleur sur la surface. Cette fonctionnalité est cruciale pour maintenir une température constante pendant le processus de gravure, garantissant ainsi une haute précision dans le transfert de motif. De plus, le faible coefficient de dilatation thermique du SiC minimise les changements dimensionnels sous différentes températures, maintenant ainsi l'intégrité structurelle et permettant un enlèvement de matière précis et uniforme.


L’une des propriétés remarquables des suscepteurs SiC pour gravure ICP est leur résistance à l’impact du plasma. Cette résistance garantit que le suscepteur ne se dégrade pas ou ne s'érode pas dans les conditions difficiles du bombardement plasma, ce qui est courant dans ces processus de gravure. Cette durabilité améliore la fiabilité du processus de gravure et contribue à la production de motifs de gravure propres et bien définis avec un minimum de défauts.


Le suscepteur SiC pour gravure ICP est intrinsèquement résistant à la corrosion par les acides et alcalis forts, ce qui constitue une propriété essentielle pour les matériaux utilisés dans les environnements de gravure ICP. Cette résistance chimique garantit que les suscepteurs SiC pour ICP Etch conservent leurs propriétés physiques et mécaniques dans le temps, même lorsqu'ils sont exposés à des réactifs chimiques agressifs. Cette durabilité réduit le besoin de remplacement et de maintenance fréquents, réduisant ainsi les coûts opérationnels et augmentant la disponibilité des installations de fabrication de semi-conducteurs.


Le suscepteur Semicorex SiC pour gravure ICP peut être conçu avec précision pour répondre à des exigences dimensionnelles spécifiques, ce qui constitue un facteur critique dans la fabrication de semi-conducteurs où la personnalisation est souvent nécessaire pour s'adapter à différentes tailles de tranches et spécifications de traitement. Cette adaptabilité permet une meilleure intégration avec les équipements et les lignes de processus existants, optimisant ainsi l'efficience et l'efficacité globales du processus de gravure.






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