Anneaux de gravure en silicone

Les anneaux de gravure en silicium sont les composants essentiels de la chambre de gravure au plasma des équipements de gravure CCP/ICP et sont généralement placés autour de la tranche semi-conductrice. Leurs fonctions principales sont de soutenir la tranche semi-conductrice, de maintenir une distribution uniforme du plasma, de protéger le bord de la tranche et ainsi de contribuer à créer des conditions de fonctionnement optimales pour le processus de gravure au plasma.

Avantages des anneaux de gravure en silicium Semicorex

1. Sélection de matériaux haut de gamme

Les anneaux de gravure en silicium Semicorex sont fabriqués à partir de MCZ de haute pureté soigneusement sélectionnésilicium monocristallin, qui offre les excellentes propriétés suivantes par rapport au silicium monocristallin CZ classique.

Haute pureté: La pureté est supérieure à 99,9999999 %, ce qui signifie que les anneaux de gravure en silicium Semicorex ne contiennent presque aucune impureté. Cette ultra-haute pureté peut efficacement éviter les interférences des impuretés des composants pendant le processus de gravure, garantissant ainsi une haute précision de gravure.

Structure stable: Le silicium monocristallin MCZ présente une structure cristalline supérieure avec moins de défauts que le silicium monocristallin CZ classique. Cette structure cristalline stable confère aux anneaux de gravure en silicium Semicorex une meilleure résistance à la corrosion par plasma et leur permet de résister à des conditions de gravure difficiles.

Excellente uniformité de résistivité :Anneaux de gravure en silicium Semicorexoffrent une uniformité de résistance exceptionnelle avec RRG < 5 %. Basse résolution. (<0,02 Ω·cm), moyenne résolution. (0,2–25 Ω·cm), haute résolution. (>100 Ω·cm). Cette excellente uniformité de résistivité peut minimiser la distribution inégale du plasma provoquée par une résistivité trop élevée ou trop faible, ce qui contribue à un champ électrique idéal pour une gravure au plasma de haute précision.

2. Traitement de précision et inspection de qualité stricte

Semicorex dispose d'une équipe technique expérimentée qui peut fournir une personnalisation personnalisée et des évaluations techniques à nos précieux clients et a également établi des procédures systématiques de traitement et d'inspection pour garantir la qualité des produits.

Services de personnalisation flexibles : Semicorex prend en charge la personnalisation basée sur les dessins du client, et le diamètre personnalisé maximum des anneaux de gravure en silicium peut aller jusqu'à 470 mm.

Traitement de surface de haut niveau : la précision du polissage peut être strictement contrôlée dans une plage de Ra < 0,1 µm, et le meulage fin permet d'obtenir une finition de surface de Ra > 0,1 µm.

Inspection de qualité stricte : la mesure dimensionnelle, les tests de résistivité et l'inspection visuelle seront effectués pour garantir que les anneaux de gravure en silicium sont exempts d'éclats, de rayures, de fissures, de taches et d'autres défauts.