Injecteur de silicium

L'injecteur de silicium Semicorex est un composant d'ultra haute pureté conçu pour la distribution précise de gaz dans les systèmes de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) pour le dépôt de polysilicium et de couches minces. Construit à partir de 9N (99,9999999%)silicium de haute pureté, cet injecteur tubulaire fin offre une propreté supérieure, une compatibilité avec les produits chimiques et une stabilité thermique dans des conditions de processus extrêmes.

À mesure que la fabrication de semi-conducteurs continue d'évoluer vers des niveaux d'intégration plus élevés et un contrôle plus strict de la contamination, chaque composant d'alimentation en gaz dans la chambre de dépôt devra également répondre à des normes plus élevées qu'auparavant. L'injecteur de silicium Semicorex a été développé spécifiquement pour ce type d'exigences : délivrer des matériaux gazeux de manière stable et uniforme dans toute la chambre de réaction sans introduire de contamination qui aurait un effet négatif sur la qualité du film ou le rendement de la tranche.

En raison de son excellente stabilité thermique, l'injecteur de silicium Semicorex peut résister à des températures allant jusqu'à 1 250 °C et peut être contrôlé sans crainte de déformation, de fissuration ou de gauchissement pendant plusieurs cycles de LPCVD à haute température. De plus, sa haute résistance à l'oxydation et son inertie chimique permettent de longs cycles dans une atmosphère oxydante, réductrice ou corrosive tout en réduisant la maintenance et en créant une stabilité du processus.

La structure tubulaire dédiée de l'injecteur de silicium permet une distribution contrôlée et égale du gaz sur une charge de tranche uniforme. Les orifices micro-conçus et la surface intérieure lisse garantissent des débits reproductibles ainsi qu'une dynamique laminaire des gaz qui sont essentielles pour une épaisseur de film constante et des taux de dépôt stables dans le four. Qu'il s'agisse de silane (SiH₄), de dichlorosilane (SiH₂Cl₂) ou d'autres gaz réactifs, l'injecteur offre des performances fiables et la précision requise pour une croissance de film de polysilicium de bonne qualité.

En raison de son excellente stabilité thermique, l'injecteur de silicium Semicorex peut résister à des températures allant jusqu'à 1 250 °C et peut être contrôlé sans crainte de déformation, de fissuration ou de gauchissement pendant plusieurs cycles de LPCVD à haute température. De plus, sa haute résistance à l'oxydation et son inertie chimique permettent de longs cycles dans une atmosphère oxydante, réductrice ou corrosive tout en réduisant la maintenance et en créant une stabilité du processus.

Chaque injecteur est fabriqué à l'aide d'un usinage et d'un polissage CNC de pointe, permettant d'obtenir des tolérances dimensionnelles submicroniques et des finitions de surface ultra-lisses. La finition de surface de haute qualité minimise la turbulence du gaz, créant très peu ou pas de particules tout en garantissant des caractéristiques d'écoulement constantes malgré des changements thermiques et de pression incohérents. La fabrication de précision garantit des processus étroitement contrôlés, des résultats reproductibles et fiables et donc des performances constantes de l'équipement.

Semicorex fabrique des injecteurs de silicium sur mesure, disponibles dans des longueurs, des diamètres et des configurations de buses personnalisés. Des solutions sur mesure peuvent être développées pour améliorer les modèles de dispersion des gaz pour des géométries de réacteurs ou des recettes de dépôt uniques. Chaque injecteur est inspecté et vérifié pour sa pureté afin de fournir le plus haut niveau de qualité semi-conducteurcomposants en silicium.

L'injecteur de silicium Semicorex offre la précision et la pureté requises dans la fabrication de semi-conducteurs d'aujourd'hui. L'intégration de silicium d'ultra haute pureté 9N, une précision d'usinage au niveau du micron et une stabilité thermique et chimique élevée assurent une distribution uniforme des gaz, une génération de particules réduite et une fiabilité exceptionnelle lors du dépôt de polysilicium LPCVD.