Anneau de protection en silicone

L'anneau de protection en silicium Semicorex est un composant semi-conducteur essentiel dans le processus de gravure. Sa fonction principale est d'entourer l'électrode et d'empêcher les fuites excessives de plasma. Avec une pureté matérielle supérieure à 9N (99,9999999 %), l'anneau de protection peut être fabriqué à la fois en monocristal et en multicristal.silicium, garantissant un fonctionnement ultra-propre et une compatibilité fiable avec les processus avancés de fabrication de semi-conducteurs.

Un contrôle précis du plasma dans le processus de gravure CCP/ICP est essentiel pour un taux de gravure efficace et uniforme et une qualité de plaquette. Une fuite de plasma incontrôlée en dehors de la zone de gravure souhaitée pourrait créer une érosion et une contamination de surface ou endommager les composants à l’intérieur de la chambre. L'anneau de protection en silicium est une solution simple et efficace à ce problème, créé pour former une barrière protectrice sur le périmètre extérieur de l'électrode, empêchant le plasma de se propager à l'extérieur de la zone cible et limitant la gravure à la zone souhaitée uniquement. L'anneau de protection en silicium agit également comme une électrode externe pour stabiliser la distribution du plasma et permettre une énergie plus uniforme à la surface de la tranche.

Les propriétés thermiques et électriques du silicium soutiennent en outre les performances de l'anneau de protection de gravure. Sa résistance aux températures de processus élevées assure l'intégrité structurelle lors d'une exposition prolongée au plasma, et sa conductivité électrique permet au composant de fonctionner correctement en tant qu'élément du système d'électrodes. Ensemble, ces applications améliorent le confinement du plasma et l'uniformité de l'énergie, ce qui permet d'obtenir des profils de gravure reproductibles sur les tranches.

La tolérance mécanique est une autre caractéristique notable de l’anneau de protection en silicium. En étant fabriqué selon des tolérances strictes, il assure un positionnement précis autour de l'électrode et maintient l'espacement et la géométrie de la chambre. Cette précision mécanique génère des conditions de processus reproductibles pour moins de variabilité entre les séries individuelles et permet une production de semi-conducteurs en grand volume. Le matériau lui-même présente une excellente compatibilité avec les environnements plasma ; par conséquent, l'érosion de sa structure lui permet généralement d'offrir une longue durée de vie et une stabilité dans les performances du processus.

La durabilité et la rentabilité sont deux autres avantages précieux. En protégeant les sections inutiles de la chambre du plasma, l'anneau de protection réduit l'usure des autres composants critiques, ce qui réduit les efforts de maintenance et augmente la disponibilité opérationnelle globale. Une longue durée de vie et un remplacement moins fréquent en font une solution rentable pour les usines de semi-conducteurs afin d'augmenter la productivité et ainsi réduire les coûts d'exploitation.

LeSiliciumL'anneau de protection peut également être personnalisé pour chaque configuration d'outil et spécifications de processus, car il est disponible en plusieurs tailles et géométries pour s'adapter aux nombreuses chambres de gravure plasma différentes fabriquées par les fabricants, tout en obtenant un ajustement optimal. De plus, les traitements de surface et le polissage peuvent être utilisés pour réduire davantage la génération de particules dans le cadre de normes de fabrication ultra-propres.