Le disque suscepteur Semicorex est un outil indispensable dans le dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD), spécialement conçu pour soutenir et chauffer les tranches semi-conductrices pendant le processus critique de dépôt de couche épitaxiale. Le disque suscepteur joue un rôle déterminant dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, où une croissance précise des couches est primordiale. L'engagement de Semicorex envers une qualité de pointe sur le marché, allié à des considérations fiscales compétitives, cimente notre désir d'établir des partenariats pour répondre à vos exigences en matière de transport de plaquettes semi-conductrices.
Fabriqué à partir de graphite de haute pureté et recouvert d'une couche de carbure de silicium (SiC) selon la technique MOCVD, le disque suscepteur Semicorex combine des propriétés thermiques exceptionnelles avec une stabilité chimique remarquable. Le revêtement en carbure de silicium assure une excellente résistance aux températures élevées et aux conditions corrosives, cruciale pour maintenir l'intégrité du disque suscepteur dans des environnements difficiles.
De plus, le revêtement SiC du disque suscepteur améliore sa conductivité thermique, ce qui permet une répartition rapide et uniforme de la chaleur, essentielle à une croissance épitaxiale constante. Il absorbe et rayonne efficacement la chaleur, fournissant une température stable et uniforme essentielle au dépôt de films minces. Cette uniformité est essentielle pour obtenir des couches épitaxiales de haute qualité, essentielles à la fonctionnalité et aux performances des dispositifs semi-conducteurs avancés.
La conception du Susceptor Disc répond également au défi de la dilatation thermique. Son coefficient de dilatation thermique minimal assure une forte liaison avec les couches épitaxiales, réduisant ainsi le risque de fissuration dû aux cyclages thermiques. Cette caractéristique, associée au point de fusion élevé du disque Susceptor et à son excellente résistance à l’oxydation, permet un fonctionnement fiable dans des conditions extrêmes.
Grâce à ces propriétés avancées, le disque Susceptor répond non seulement, mais les dépasse, aux exigences strictes des applications MOCVD modernes, offrant une solution fiable et performante qui améliore l'efficacité globale et le rendement du processus de croissance épitaxiale.