Suscepteur avec grille
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Suscepteur avec grille

Le suscepteur Semicorex avec grille est un composant spécialisé utilisé dans le processus de croissance épitaxiale des tranches semi-conductrices. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

Le suscepteur Semicorex avec grille est un composant spécialisé utilisé dans le processus de croissance épitaxiale des tranches semi-conductrices. Cet équipement essentiel est conçu pour transporter et soutenir les tranches pendant le dépôt de matériaux dans un système de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD). Le suscepteur avec grille joue un rôle central en garantissant une croissance uniforme et contrôlée des couches épitaxiales sur la tranche semi-conductrice.

Le Susceptor avec grille est construit avec des matériaux optimisés pour sa fonction. Dans ce cas, il est constitué de graphite revêtu de MOCVD SiC (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide). Ce choix de matériaux offre plusieurs avantages, notamment une résistance aux températures élevées, une stabilité chimique et une excellente conductivité thermique. Le revêtement SiC sur le graphite améliore la durabilité et la résistance du suscepteur aux conditions difficiles rencontrées lors du processus de croissance épitaxiale.

La structure Susceptor with Grid sert de mécanisme de support pour les tranches semi-conductrices. Il est stratégiquement conçu pour maintenir les plaquettes solidement en place tout en permettant un flux efficace de gaz et un dépôt uniforme des matériaux. Le motif de grille permet de répartir uniformément la chaleur et les réactifs sur la surface de la tranche, contribuant ainsi au contrôle précis de l'épaisseur et de la composition de la couche épitaxiale.

Le suscepteur Semicorex avec grille est un composant essentiel dans le processus de fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Sa construction robuste et sa conception spécialisée en font un outil essentiel pour réaliser une croissance épitaxiale de haute qualité, garantissant la production de semi-conducteurs avec des performances et une fiabilité supérieures.



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