Haut-lune supérieure

Semicorex Upper Half Moon est un transporteur de plaquette semi-circulaire méticuleusement conçu pour l'équipement de traitement épitaxial. En tant que composant de suscepteur critique dans le processus de croissance épitaxiale, cette partie est conçue pour soutenir et stabiliser les tranches de silicium pendant le dépôt de vapeur chimique à haute température (CVD). Fabriqué à partir de graphite de haute pureté et protégé par un revêtement uniforme en carbure de silicium (SIC), la demi-lune supérieure combine la robustesse mécanique, une excellente conductivité thermique et une résistance à la corrosion exceptionnelle pour répondre aux exigences de l'épitaxie à haute précision.

Ce produit tire son nom de sa géométrie à demi-lune distincte, qui est spécialement conçue pour des plates-formes de rotation spécifiques dans des réacteurs épitaxiaux à wafer unique ou multi-wafer. Sa forme unique facilite non seulement le débit de gaz uniforme et la distribution thermique, mais permet également une intégration facile dans les assemblages de chauffage et de rotation existants. La conception semi-circulaire garantit un positionnement optimal des plaquettes, minimise la contrainte thermique et joue un rôle clé dans la réalisation d'épaisseur de film épitaxiale uniforme sur toute la surface de la plaquette.

Le produit de la demi-lune supérieur comprend un substrat de graphite ultra-fin en raison des avantages combinés des performances d'une structure ultra-fin stable à des températures extrêmement élevées associées à une résistance à l'échec sur des courses répétées. Pour prolonger l'utilisation, un revêtement SIC dense de haute pureté a été appliqué par la technologie de dépôt chimique de vapeur, isolant le substrat de graphite de HCl, Cl₂, Silane et d'autres gaz de processus corrosif. Quoi qu'il en soit, le revêtement SIC favorise une durée de vie plus durable et plus extensible au produit de la moitié supérieure et aux pièces de sa totalité tout en diminuant la contamination de l'environnement de la plaquette, bénéficiant finalement au rendement du processus et à la qualité du film.

La finition de surface de la couche SIC a été spécifiée et est plate ou lisse pour favoriser un transfert de chaleur constant vers un substrat et une formation de film constante. De plus, le revêtement SIC améliore la résistance des composants à la génération de particules qui est un facteur clé des applications de semi-conducteur sensibles aux défauts. Les paramètres de performance, notamment une très faible déformation, et une très faible déformation supérieure à 1200 ° C fournissent des composants efficaces pour des cycles de fonctionnement très longs, une diminution des temps d'arrêt du système et des coûts de maintenance.

La demi-lune supérieure semicoréx est sans égal en ce qui concerne les tolérances, l'uniformité du revêtement et la sélection des matériaux. Nous maintenons un contrôle de qualité strict à chaque étape, de l'usinage en graphite, au dépôt de revêtements SIC et à l'inspection finale, garantissant que chaque unité répond aux normes rigoureuses requises de l'équipement de qualité semi-conducteur. De plus, notre expérience dans la personnalisation des géométries, des épaisseurs et des traitements de surface est reconnue pour être appliquée à presque toutes les formes de plates-formes épitaxies.

La demi-lune supérieure est extrêmement importante pour la stabilité des plaquettes, l'uniformité thermique et le contrôle de la contamination pour l'épitaxie semi-conducteur en silicium ou composé. En conséquence, Semicorex exploite l'expertise inégalée, la technologie des matériaux et la cohérence de la fabrication pour répondre aux attentes des clients pour des composants de suscepteurs fiables et hautes performances.