le support de plaquette Semicorex pour MOCVD, conçu pour les besoins précis du dépôt chimique en phase vapeur de métaux organiques (MOCVD), apparaît comme un outil indispensable dans le traitement du Si ou du SiC monocristallin pour les circuits intégrés à grande échelle. Le support de plaquette pour composition MOCVD présente une pureté inégalée, une résistance aux températures élevées et aux environnements corrosifs, ainsi que des propriétés d'étanchéité supérieures pour maintenir une atmosphère vierge. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des supports de plaquettes hautes performances pour MOCVD qui allient qualité et rentabilité.
La conception avancée du support de plaquettes Semicorex pour les applications MOCVD agit comme une base sécurisée, conçue de manière experte pour accueillir les plaquettes semi-conductrices. Il offre une conception optimisée qui garantit une adhérence serrée sur les plaquettes tout en facilitant une distribution optimale des gaz pour une stratification uniforme des matériaux. Amélioré avec un revêtement en carbure de silicium (SiC) par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le support de plaquette pour MOCVD combine la résilience du graphite avec les attributs du CVD SiC consistant à supporter des températures élevées, à posséder un coefficient de dilatation thermique négligeable et à favoriser une dispersion thermique égalisée. Cet équilibre est crucial pour préserver l’intégrité de la température de surface des plaquettes.
Bénéficiant d'attributs tels que l'inhibition de la corrosion, la résilience chimique et, par conséquent, une durée de vie opérationnelle prolongée, le Wafer Carrier pour MOCVD augmente considérablement à la fois le calibre et le rendement des plaquettes. Sa durabilité présente un avantage économique direct, positionnant le Wafer Carrier pour MOCVD comme un choix d'approvisionnement judicieux pour vos opérations de production de semi-conducteurs.
Méticuleusement adapté aux procédures d'épitaxie des tranches, le support de tranches Semicorex pour MOCVD excelle dans le transport sécurisé des tranches dans des fours à haute température. Son cadre durable garantit que les plaquettes restent intactes, réduisant ainsi la propension aux dommages pendant les étapes critiques de croissance épitaxiale.**