Réchauffeur de processus de plaquette

Semicorex Wafer Process Heater est fabriqué à partir de graphite de revêtement de carbure de silicium (SiC), le revêtement est appliqué par une méthode CVD à des qualités spécifiques de graphite haute densité, de sorte qu'il peut fonctionner dans le four à haute température avec plus de 3000 ° C dans une atmosphère inerte, 2200°C sous vide.
Les propriétés spéciales et la faible masse du matériau Wafer Process Heater permettent des vitesses de chauffage rapides, une répartition uniforme de la température et une précision de contrôle exceptionnelle. Par rapport à d'autres matériaux, la surface du carbure de silicium reste plate en raison de sa faible dilatation thermique, même lorsqu'elle est utilisée avec des changements rapides de température. Les plaques chauffantes conviennent parfaitement aux processus exigeants dans les systèmes de traitement des semi-conducteurs.
Chez Semicorex, nous nous concentrons sur la fourniture de produits de haute qualité et rentables à nos clients. Notre réchauffeur de processus de wafer a un avantage de prix et est exporté vers de nombreux marchés européens et américains. Notre objectif est d'être votre partenaire à long terme, offrant des produits de qualité constante et un service client exceptionnel.

Paramètres de Wafer Process Heater

Caractéristiques du réchauffeur de processus Wafer

- Revêtements CVD SiC pour améliorer la durée de vie.
- Résistance aux hautes températures, résistance à la corrosion, longue durée de vie, peut améliorer la qualité et le rendement des plaquettes.
- Il a un coefficient de dilatation thermique extrêmement faible, une résistance aux températures élevées, une résistance élevée à l'usure, une bonne isolation, une bonne stabilité chimique et une pénétration de la lumière visible presque violette (rouge).

Nous pouvons fournir un creuset en graphite anti-oxydation et à longue durée de vie, un moule en graphite et toutes les pièces du réchauffeur en graphite.