Anneaux de masse supérieurs recouverts de SiC CVD

CVD SiCLes anneaux de masse supérieurs revêtus sont généralement installés dans la région supérieure de la chambre de réaction dans un équipement de gravure au plasma, entourant le mandrin électrostatique de la tranche. Les anneaux de masse supérieurs recouverts de SiC CVD sont essentiels à l'ensemble du système de gravure, car ils peuvent agir comme une barrière physique pour protéger les composants de l'appareil contre les attaques de plasma, ajuster le champ électrique interne et confiner la plage de distribution du plasma pour garantir des résultats de gravure uniformes.

La gravure au plasma est une technologie de gravure sèche largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, qui utilise les interactions physiques et chimiques entre le plasma et la surface des matériaux semi-conducteurs pour éliminer sélectivement des zones spécifiques, réalisant ainsi le traitement de structures de précision. Dans l’environnement exigeant de la gravure au plasma, le plasma à haute énergie provoque une corrosion agressive et une attaque des composants à l’intérieur de la chambre de réaction. Pour garantir un fonctionnement fiable et efficace, les composants de la chambre doivent avoir une excellente résistance à la corrosion, des propriétés mécaniques et de faibles caractéristiques de contamination. Les anneaux de masse supérieurs Semicorex CVD avec revêtement SiC sont parfaitement conçus pour répondre à ces environnements de fonctionnement difficiles et hautement corrosifs.

Revêtement CVD SiC fiable

Pour de meilleures performances dans les conditions de gravure difficiles, les anneaux de masse supérieurs recouverts de SiC CVD Semicorex sont recouverts d'un revêtement SiC CVD haute performance, qui améliore encore leurs performances et leur durabilité.

1. Ultra-haute pureté

LeRevêtement SiCfabriqué via le processus CVD présente une excellente densification avec une pureté ultra-élevée (pureté supérieure à 99,9999 %), ce qui peut empêcher les anneaux de sol supérieurs recouverts de SiC Semicorex CVD d'être attaqués par plasma à haute énergie dans les applications de gravure, évitant ainsi la contamination causée par les particules d'impuretés des matrices.

2. Résistance à la corrosion améliorée

Le revêtement SiC fabriqué via le procédé CVD offre une résistance à la corrosion améliorée, ce qui permet aux anneaux de masse supérieurs recouverts de SiC Semicorex CVD de résister efficacement à la corrosion difficile du plasma (en particulier les gaz corrosifs tels que les halogènes et le fluor).

3. Propriétés mécaniques améliorées

Les anneaux de masse supérieurs recouverts de SiC CVD Semicorex peuvent supporter le bombardement intense du plasma, les contraintes mécaniques et les manipulations fréquentes sans déformation ni fracture pendant un service à long terme grâce à la dureté et à la résistance à l'usure améliorées du revêtement CVD SiC.

Traitement de haut niveau et inspection de la qualité

Pour s'adapter parfaitement aux conditions exigeantes de gravure des semi-conducteurs, les anneaux de masse supérieurs recouverts de SiC CVD Semicorex sont soumis à un usinage de précision et à une inspection rigoureuse.

Traitement de surface : La précision du polissage est Ra < 0,1 µm ; la précision du broyage fin est Ra > 0,1 µm

La précision du traitement est contrôlée dans ≤ 0,03 mm

Contrôle qualité :

Les anneaux CVD SiC solides Semicorex sont soumis à une analyse ICP-MS (spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif). Les anneaux CVD SiC solides Semicorex sont soumis à des mesures dimensionnelles, des tests de résistivité et une inspection visuelle, garantissant que les produits sont exempts d'éclats, de rayures, de fissures, de taches et d'autres défauts.