Support de support de gravure pour gravure PSS

Le support de support de gravure de Semicorex pour la gravure PSS est conçu pour les applications d'équipement d'épitaxie les plus exigeantes. Notre support en graphite ultra pur peut résister aux environnements difficiles, aux températures élevées et aux nettoyages chimiques agressifs. Le support revêtu de SiC présente d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, une conductivité thermique élevée et est rentable. Nos produits sont largement utilisés sur de nombreux marchés européens et américains et nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

Chez Semicorex, nous avons conçu le support de support de gravure pour la gravure PSS spécifiquement pour les environnements difficiles requis pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation des plaquettes. Notre support en graphite ultra-pur est idéal pour les phases de dépôt de couches minces comme le MOCVD, les suscepteurs d'épitaxie, les plates-formes pancake ou satellite, et les traitements de manipulation de tranches tels que la gravure. Le support revêtu de SiC présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur et une conductivité thermique élevée. Nos produits sont rentables et offrent un bon avantage en termes de prix.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre support de support de gravure pour gravure PSS.

Paramètres du support de support de gravure pour la gravure PSS

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure cristalline	Phase β du FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille des grains	µm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J kg-1 K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force de flexion	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (courbure 4pt, 1300℃)	430
Expansion thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300