Support de manutention PSS pour le transfert de plaquettes

Le PSS Handling Carrier for Wafer Transfer de Semicorex est conçu pour les applications d'équipement d'épitaxie les plus exigeantes. Notre support en graphite ultra-pur peut résister aux environnements difficiles, aux températures élevées et aux nettoyages chimiques agressifs. Le support revêtu de SiC présente d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, une conductivité thermique élevée et est économique. Nos produits sont largement utilisés sur de nombreux marchés européens et américains, et nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

Le support de manipulation PSS pour le transfert de plaquettes de Semicorex est conçu pour répondre aux exigences de nettoyage chimique à haute température et sévères pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation de plaquettes. Notre support en graphite ultra-pur est idéal pour les phases de dépôt de couches minces telles que MOCVD, les suscepteurs d'épitaxie, les plates-formes de crêpes ou de satellites, et le traitement de manipulation de plaquettes tel que la gravure. Le support revêtu de SiC présente d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, une conductivité thermique élevée et est économique.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre support de manutention PSS pour le transfert de plaquettes.

Paramètres du PSS Handling Carrier pour le transfert de plaquettes

Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure en cristal	Phase β FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille d'un grain	μm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J·kg-1 ·K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force Felexurale	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (pli 4pt, 1300â)	430
Dilatation Thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques du PSS Handling Carrier pour le transfert de plaquettes

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire

- Garantir l'uniformité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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