Plateau de support de gravure PSS pour le traitement des plaquettes

Le plateau support de gravure PSS de Semicorex pour le traitement des plaquettes est spécialement conçu pour les applications exigeantes d'équipement d'épitaxie. Notre support en graphite ultra-pur est idéal pour les phases de dépôt de couches minces comme le MOCVD, les suscepteurs d'épitaxie, les plates-formes pancake ou satellite, et les traitements de manipulation de tranches tels que la gravure. Le plateau support de gravure PSS pour le traitement des plaquettes présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur et une conductivité thermique élevée. Nos produits sont rentables et présentent un bon avantage en termes de prix. Nous approvisionnons de nombreux marchés européens et américains et sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

Le plateau support de gravure PSS pour le traitement des plaquettes de Semicorex est conçu pour les environnements difficiles requis pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation des plaquettes. Notre support en graphite ultra-pur est conçu pour supporter les tranches lors des phases de dépôt de couches minces telles que les suscepteurs MOCVD et d'épitaxie, les plates-formes pancake ou satellite. Le support revêtu de SiC présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur et une conductivité thermique élevée. Nos produits sont rentables et offrent un bon avantage en termes de prix.

Paramètres du plateau de support de gravure PSS pour le traitement des plaquettes

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure cristalline	Phase β du FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille des grains	µm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J kg-1 K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force de flexion	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (courbure 4pt, 1300℃)	430
Expansion thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques du plateau de support de gravure PSS pour le traitement des plaquettes

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire

- Garantir la régularité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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