Plaque de gravure au silicium pour les applications de gravure PSS

La plaque de gravure en silicium de Semicorex pour les applications de gravure PSS est un support en graphite ultra-pur de haute qualité spécialement conçu pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation de tranches. Notre transporteur peut résister à des environnements difficiles, à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif. La plaque de gravure en silicium pour les applications de gravure PSS présente d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, une conductivité thermique élevée et est économique. Nos produits sont largement utilisés sur de nombreux marchés européens et américains, et nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

La plaque de gravure au silicium de Semicorex pour les applications de gravure PSS est conçue pour les applications d'équipement d'épitaxie les plus exigeantes. Notre support en graphite ultra-pur peut résister aux environnements difficiles, aux températures élevées et aux nettoyages chimiques agressifs. Le support revêtu de SiC présente d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, une conductivité thermique élevée et est économique.

Paramètres de la plaque de gravure au silicium pour les applications de gravure PSS

Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure en cristal	Phase β FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille d'un grain	μm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J·kg-1 ·K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force Felexurale	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (pli 4pt, 1300â)	430
Dilatation Thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques de la plaque de gravure au silicium pour les applications de gravure PSS

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire

- Garantir l'uniformité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés

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