Anneau d'entrée de gaz pour équipement semi-conducteur

L'anneau d'entrée de gaz Semicorex pour équipement semi-conducteur est revêtu de SiC, qui est un revêtement de carbure de silicium (SiC) dense et résistant à l'usure. Il a des propriétés élevées de résistance à la corrosion et à la chaleur ainsi qu'une excellente conductivité thermique. Nous appliquons du SiC en couches minces sur le graphite en utilisant le procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

Notre anneau d'entrée de gaz pour équipement semi-conducteur est conçu pour obtenir le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire, garantissant l'uniformité du profil thermique. Cela permet d'éviter toute contamination ou diffusion d'impuretés, assurant une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce de plaquette.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre anneau d'entrée de gaz pour équipement semi-conducteur.

Paramètres de l'anneau d'entrée de gaz pour les équipements semi-conducteurs

Caractéristiques de l'anneau d'entrée de gaz pour équipement semi-conducteur

â Graphite recouvert de SiC de haute pureté

â Résistance à la chaleur supérieure et uniformité thermique

â Cristal SiC fin enduit pour une surface lisse

â Haute durabilité contre le nettoyage chimique

â Le matériau est conçu pour éviter les fissures et le délaminage.