Vous pouvez être assuré d'acheter ICP Etching Carrier dans notre usine et nous vous offrirons le meilleur service après-vente et une livraison rapide. Le suscepteur de plaquette Semicorex est constitué de graphite revêtu de carbure de silicium utilisant le procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Ce matériau possède des propriétés uniques, notamment une résistance élevée aux températures et aux produits chimiques, une excellente résistance à l'usure, une conductivité thermique élevée et une résistance et une rigidité élevées. Ces propriétés en font un matériau attrayant pour diverses applications à haute température, y compris les systèmes de gravure par plasma à couplage inductif (ICP).
Nous fournissons un service personnalisé, vous aidons à innover avec des composants qui durent plus longtemps, à réduire les temps de cycle et à améliorer les rendements.
La plaque de support de gravure ICP de Semicorex est la solution parfaite pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.
En savoir plusenvoyer une demandeLe porte-wafers de Semicorex pour le processus de gravure ICP est le choix parfait pour les processus exigeants de manipulation de wafers et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux pour des résultats cohérents et fiables.
En savoir plusenvoyer une demandeL'ICP Silicon Carbon Coated Graphite de Semicorex est le choix idéal pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux.
En savoir plusenvoyer une demandeChoisissez le système de gravure au plasma ICP de Semicorex pour le processus PSS pour des processus d'épitaxie et MOCVD de haute qualité. Notre produit est conçu spécifiquement pour ces processus, offrant une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.
En savoir plusenvoyer une demandeLa plaque de gravure au plasma ICP de Semicorex offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion pour les processus de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit est conçu pour résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif, garantissant durabilité et longévité. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.
En savoir plusenvoyer une demandeVous recherchez un support de plaquette fiable pour les processus de gravure ? Ne cherchez pas plus loin que le support de gravure ICP en carbure de silicium de Semicorex. Notre produit est conçu pour résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif, garantissant durabilité et longévité. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.
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