Chuck sous vide de la Sic poreux

Le mandrin de vide de la Sic Porerex semicorex représente une solution de manutention visant à atteindre un positionnement précis et stable des plaquettes à cours pendant toutes les étapes du traitement des semi-conducteurs. Ce mandrin sous vide contient une excellente adhérence pour les applications de manutention et d'alignement du substrat, améliorant ainsi la fiabilité et les performances. Les choix de matériaux de base - SUS430, alliage d'aluminium 6061, céramique en alumine dense, granit et céramique en carbure de silicium - offrent la flexibilité de l'utilisateur pour choisir le matériau optimal en fonction des exigences individuelles en performances thermiques, des propriétés mécaniques ou du poids.

Meilleur choix de matériaux: le bas du mandrin d'aspirateur sic poreux peut être modifié avec différents matériaux pour répondre à divers besoins:

• SUS430: Une option bon marché qui résiste bien à la rouille pour les utilisations courantes.
• ALLIAGE D'ALUMINUM 6061: Donne un mélange de force, de poids léger et d'une grande ouvrabilité, ce qui le rend bon pour la manipulation régulière des plaquettes.
• Céramique en alumine dense (99% AL2O3): offre une excellente stabilité thermique et une dureté élevée, adaptée aux applications à haute température ou de précision.
• Granite: Connu pour sa planéité et sa stabilité exceptionnelles, le granit fournit une faible extension thermique, idéale pour les applications nécessitant une haute précision.
• Céramique en carbure de silicium: connu pour sa conductivité thermique élevée, sa résistance chimique et sa durabilité, SIC est idéal pour les environnements à haute performance où des conditions extrêmes sont rencontrées.

Planéité à haute précision: le mandrin sous vide sic poreux assure une planéité supérieure, avec une précision variant en fonction du matériau utilisé. Le classement des matériaux de la précision la plus élevée au plus faible de la planéité est:

Granite et céramique en carbure de silicium: les deux matériaux offrent une planéité de haute précision, garantissant la stabilité des plaquettes même dans les environnements de traitement les plus exigeants.

Alumine dense (99% AL2O3): légèrement moins de planéité par rapport au granit et au sic, mais offre toujours une bonne précision pour les applications générales de semi-conducteur.

ALLIAGE D'ALUMINUM 6061 et SUS430: Fournissez une précision de planéité légèrement inférieure mais sont toujours très fiables pour la manipulation de la tranche dans des applications moins exigeantes.

Variations de poids pour les besoins spécifiques: le mandrin poreux de l'aspirateur sic permet aux utilisateurs de choisir parmi une variété d'options de matériaux en fonction des exigences de poids:

ALLIAGE D'ALUMINUM 6061: Le choix du matériau le plus léger, offrant une manipulation et un transport faciles.

Granite: un matériau de base plus lourd qui offre une stabilité élevée et minimise les vibrations pendant le traitement.

Céramique en carbure de silicium: a un poids modéré, offrant un équilibre de durabilité et de conductivité thermique.

Céramique en alumine dense: l'option la plus lourde, idéale pour les applications où la stabilité et une résistance thermique élevée sont prioritaires.

Durabilité et performances élevées: le mandrin d'aspirateur sic poreux est conçu pour des performances durables, capables de résister à des variations de température extrêmes et l'usure associée au traitement des semi-conducteurs. La variante en céramique en carbure de silicium est particulièrement bénéfique pour les environnements à haute température et chimiquement agressifs en raison de sa résistance exceptionnelle à l'expansion thermique et à la corrosion.

Solutions rentables: avec plusieurs options de matériaux, le mandrin de vide sic poreux fournit une solution rentable qui peut être adaptée à différents budgets et exigences d'application. Pour les applications générales, l'alliage d'aluminium et SUS430 sont rentables tout en offrant des performances satisfaisantes. Pour des environnements plus exigeants, les options de céramique granit ou SIC offrent des performances et une durabilité améliorées.

Applications:

Le mandrin d'aspirateur poreux est principalement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la manipulation des plaquettes, y compris dans des processus tels que:

• Dics et coupes de plaquettes
• Fabrication photovoltaïque
• MOCVD et CVD Epitaxy Growth
• Implantation ionique
• Processus d'oxydation et de diffusion

Le mandrin sous vide sic de Semicorex se distingue par sa précision, sa polyvalence et sa durabilité. Que vous ayez besoin de solutions légères pour une manipulation générale ou des matériaux avancés pour les processus semi-conducteurs haute performance, notre produit offre une large gamme d'options pour répondre à vos besoins. Fabriquée avec les normes de qualité les plus élevées, nos décharges sous vide garantissent une manipulation de plaquettes fiable et efficace pour diverses applications, fournissant des résultats cohérents dans des processus standard et spécialisés.

Pour les industries où la stabilité des plaquettes et la manipulation précise sont cruciales, le poreux sic vide chuck offre une solution idéale. Avec sa sélection de matériaux, de haute précision et de durabilité supérieure, c'est le choix parfait pour une large gamme de processus semi-conducteurs.