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Des produits
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Système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE)
Le système de réacteur d'épitaxie en phase liquide Semicorex (LPE) est un produit innovant qui offre d'excellentes performances thermiques, un profil thermique uniforme et une adhérence supérieure du revêtement. Sa grande pureté, sa résistance à l'oxydation à haute température et sa résistance à la corrosion en font un choix idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses options personnalisables et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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Dépôt épitaxial CVD dans un réacteur à baril
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor est un produit hautement durable et fiable pour la croissance de couches épitaxiales sur des puces de plaquettes. Sa résistance à l'oxydation à haute température et sa grande pureté le rendent adapté à une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Son profil thermique uniforme, son schéma d'écoulement de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour une croissance de couche épixiale de haute qualité.
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Dépôt épitaxial de silicium dans un réacteur à baril
Si vous avez besoin d'un suscepteur en graphite haute performance pour une utilisation dans des applications de fabrication de semi-conducteurs, le réacteur de dépôt épitaxial de silicium Semicorex en barillet est le choix idéal. Son revêtement SiC de haute pureté et sa conductivité thermique exceptionnelle offrent des propriétés de protection et de répartition de la chaleur supérieures, ce qui en fait le choix incontournable pour des performances fiables et constantes, même dans les environnements les plus difficiles.
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Système Epi à baril chauffé par induction pour l'épitaxie LPE
Si vous avez besoin d'un suscepteur en graphite avec des propriétés de conductivité thermique et de répartition de la chaleur exceptionnelles, ne cherchez pas plus loin que le système Epi à baril chauffé par induction Semicorex pour l'épitaxie LPE. Son revêtement SiC de haute pureté offre une protection supérieure dans les environnements à haute température et corrosifs, ce qui en fait le choix idéal pour une utilisation dans les applications de fabrication de semi-conducteurs.
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Structure en barillet pour réacteur épitaxial à semi-conducteurs
Avec ses propriétés exceptionnelles de conductivité thermique et de distribution de la chaleur, la structure cylindrique Semicorex pour réacteur épitaxial à semi-conducteurs est le choix parfait pour une utilisation dans les processus LPE et d'autres applications de fabrication de semi-conducteurs. Son revêtement SiC haute pureté offre une protection supérieure dans les environnements à haute température et corrosifs.
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Suscepteur de barillet en graphite revêtu de SiC
Si vous recherchez un suscepteur en graphite hautes performances pour une utilisation dans des applications de fabrication de semi-conducteurs, le suscepteur à barillet en graphite revêtu de SiC Semicorex est le choix idéal. Ses propriétés exceptionnelles de conductivité thermique et de distribution de la chaleur en font le choix incontournable pour des performances fiables et constantes dans des environnements à haute température et corrosifs.
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