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Les mandrins de décollage en céramique poreuse Semicorex SiC sont les composants essentiels spécialement conçus pour l'adsorption et la fixation de tranches ultra-minces amincies dans la fabrication avancée de semi-conducteurs. Semicorex s'engage à offrir à nos clients distingués des mandrins en céramique poreuse SiC usinés avec précision avec une qualité de pointe sur le marché.

Les mandrins à vide en céramique poreuse Semicorex SiC sont des montages en céramique hautement spécialisés qui utilisent la structure spéciale des matériaux céramiques poreux en carbure de silicium pour réaliser l'adsorption sous vide des pièces. Tirant parti de technologies de production de pointe et d'une expérience de fabrication mature, Semicorex s'engage à fournir à nos précieux clients des mandrins à vide en céramique poreuse SiC de qualité leader sur le marché.

Les mandrins à vide en céramique Semicorex SiC sont des dispositifs d'adsorption sous vide de précision fabriqués à partir de céramique de carbure de silicium, qui permettent aux plaquettes semi-conductrices d'être positionnées de manière précise et stable dans des positions spécifiques pendant le traitement et l'inspection. L'utilisation de mandrins à vide en céramique Semicorex SiC peut contribuer à améliorer les rendements de fabrication de semi-conducteurs, à améliorer les performances des dispositifs à semi-conducteurs et à réduire les coûts globaux de fabrication.

Les supports de plaquettes Semicorex RTA SiC sont les outils de transport de plaquettes essentiels, spécialement conçus pour le processus de recuit thermique rapide dans la fabrication de semi-conducteurs. Les supports de tranches Semicorex RTA SiC constituent la solution optimale pour un processus de recuit thermique rapide, qui peut contribuer à améliorer les rendements de fabrication des semi-conducteurs et à améliorer les performances des dispositifs à semi-conducteurs.

Les plaques de graphite à revêtement SiC Semicorex sont des supports de haute pureté spécialement conçus pour les exigences rigoureuses de l'épitaxie SiC et GaN, utilisant un revêtement dense en carbure de silicium CVD sur un substrat en graphite isostatique pour fournir une barrière thermique stable et chimiquement inerte pour le traitement des plaquettes à haut rendement. Semicorex fournit des produits et services qualifiés pour les clients mondiaux.*

Les suscepteurs épi-wafer Semicorex SiC fabriqués à partir de graphite recouvert de SiC sont conçus pour fournir une uniformité thermique et une stabilité chimique exceptionnelles dans les processus de croissance épitaxiale à haute température. Semicorex s'engage à fournir des produits de la plus haute qualité et le meilleur service aux clients du monde entier. Grâce à une solide expertise technique et des capacités de fabrication fiables, nous aidons nos partenaires mondiaux à atteindre des performances stables et une valeur à long terme.*