Le support revêtu de SiC de Semicorex pour le système de gravure au plasma ICP est une solution fiable et économique pour les processus de manipulation de tranches à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Nos supports sont dotés d'un revêtement en cristal SiC fin qui offre une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.
En savoir plusenvoyer une demandeLe porte-wafers de Semicorex pour le processus de gravure ICP est le choix parfait pour les processus exigeants de manipulation de wafers et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux pour des résultats cohérents et fiables.
En savoir plusenvoyer une demandeLa plaque de gravure en silicium de Semicorex pour les applications de gravure PSS est un support en graphite ultra-pur de haute qualité spécialement conçu pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation de tranches. Notre transporteur peut résister à des environnements difficiles, à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif. La plaque de gravure en silicium pour les applications de gravure PSS présente d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, une conductivité thermique élevée et est économique. Nos produits sont largement utilisés sur de nombreux marchés européens et américains, et nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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