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Plaque de support en graphite RTP

Plaque de support en graphite RTP

La plaque de support en graphite RTP de Semicorex est la solution parfaite pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs, y compris la croissance épitaxiale et le traitement de manipulation de tranches. Notre produit est conçu pour offrir une résistance à la chaleur et une uniformité thermique supérieures, garantissant que les suscepteurs d'épitaxie sont soumis à l'environnement de dépôt, avec une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion.

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Description du produit

Notre produit comprend du graphite revêtu de SiC de haute pureté, qui offre d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, garantissant que le support revêtu de SiC a une surface lisse, exempte de fissures et de délaminage. Notre plaque de support en graphite RTP est finement revêtue de carbure de silicium, garantissant que la surface est lisse et exempte de tout défaut. Ce produit est très résistant aux nettoyages chimiques agressifs et est conçu pour éviter les fissures et le délaminage.
Nous offrons un avantage de prix que nos concurrents ne peuvent égaler et nous nous engageons à devenir votre partenaire à long terme en Chine.
Avec notre plaque de support en graphite RTP, vous pouvez être assuré d'excellentes performances, d'une résistance à la chaleur supérieure et d'une uniformité thermique. Le support revêtu de SiC est conçu pour résister à des températures élevées et est très résistant au nettoyage chimique, ce qui lui assure une durée de vie de plusieurs années. Notre produit est également conçu pour être facile à utiliser, ce qui le rend idéal pour les utilisateurs débutants et expérimentés.
Chez Semicorex, nous nous engageons à fournir des produits et services de haute qualité à nos clients. Nous n'utilisons que les meilleurs matériaux et nos produits sont conçus pour répondre aux normes de qualité et de performance les plus élevées. Notre plaque de support en graphite RTP ne fait pas exception. Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur la façon dont nous pouvons vous aider avec vos besoins de traitement de tranches de semi-conducteurs.


Paramètres de la plaque de support en graphite RTP

Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC

Propriétés SiC-CVD

Structure en cristal

Phase β FCC

Densité

g/cm³

3.21

Dureté

Dureté Vickers

2500

Taille d'un grain

μm

2~10

Pureté chimique

%

99.99995

Capacité thermique

J·kg-1 ·K-1

640

Température de sublimation

2700

Force Felexurale

MPa (RT 4 points)

415

Module de Young

Gpa (pli 4pt, 1300â)

430

Dilatation Thermique (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conductivité thermique

(W/mK)

300


Caractéristiques de la plaque de support en graphite RTP

Graphite recouvert de SiC de haute pureté
Résistance à la chaleur supérieure et uniformité thermique
Cristal de SiC fin enduit pour une surface lisse
Haute durabilité contre le nettoyage chimique
Le matériau est conçu pour éviter les fissures et le délaminage.





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