Bras robotique en céramique SiC

Céramique SiCbras robotiqueest utilisé dans plusieurs processus de fabrication de plaquettes de semi-conducteurs, jouant un rôle important pour garantir la qualité et l'efficacité de la fabrication des plaquettes. Il est couramment installé à l'intérieur et à l'extérieur des chambres de divers équipements frontaux de semi-conducteurs, tels que des machines de gravure, des équipements de dépôt, des machines de lithographie, des équipements de nettoyage, participant directement à la manipulation et au positionnement des tranches de semi-conducteurs. 

Les plaquettes semi-conductrices sont facilement contaminées par des particules, de sorte que leurs processus de fabrication associés sont principalement effectués dans des équipements semi-conducteurs propres et sous vide. En fonctionnement réel, en tant que composant essentiel d'un tel équipement, le bras robotique en céramique SiC entre en contact direct avec les tranches semi-conductrices et doit également répondre à des exigences de propreté ultra élevées. Le bras robotique en céramique SiC de Semicorex est fabriqué à partir de céramique de carbure de silicium haute performance suivie d'une finition de surface et d'un traitement de nettoyage de précision, qui peuvent répondre avec précision aux exigences strictes de la fabrication de semi-conducteurs en matière de propreté et de planéité des surfaces. Cela contribue de manière significative à réduire les défauts des plaquettes et à améliorer le rendement de production des plaquettes.

Céramique SiCle bras robotique est l'option optimale pour les procédures de traitement thermique telles que le recuit, l'oxydation et la diffusion. En raison de la stabilité thermique exceptionnelle et de la résistance supérieure aux chocs thermiques des matériaux en carbure de silicium, les bras robotiques en céramique SiC sont capables de fonctionner de manière fiable pendant des périodes prolongées dans des conditions de température élevée. Il peut résister à l'influence de la dilatation thermique et préserver son intégrité structurelle sous contrainte thermique, garantissant ainsi une précision constante du positionnement de la tranche.

Grâce à sa robuste résistance aux gaz et liquides corrosifs, le bras robotique en céramique SiC peut maintenir ses performances de manière stable même lorsqu'il est exposé à des atmosphères de processus corrosives agressives telles que la gravure, le dépôt de couches minces et l'implantation d'ions. Ces performances de résistance à la corrosion améliorent l'efficacité de la fabrication des plaquettes semi-conductrices en réduisant efficacement le risque de dommages aux composants liés à la corrosion et en réduisant le besoin de remplacements et de maintenance fréquents.