Suscepteur SiC pour MOCVD

Semicorex est l'un des principaux fabricants et fournisseurs de suscepteurs SiC pour MOCVD. Notre produit est spécialement conçu pour répondre aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs en matière de croissance de la couche épitaxiale sur la puce de plaquette. Le produit est utilisé comme plaque centrale dans MOCVD, avec une conception en forme d'engrenage ou d'anneau. Il a une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements extrêmes.

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Description du produit

Notre suscepteur SiC pour MOCVD est un produit de qualité supérieure qui présente plusieurs caractéristiques clés. Il assure un revêtement sur toutes les surfaces, en évitant le pelage, et a une résistance à l'oxydation à haute température, assurant une stabilité même à des températures élevées jusqu'à 1600°C. Le produit est fabriqué avec une grande pureté par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température. Il a une surface dense avec de fines particules, ce qui le rend très résistant à la corrosion par les acides, les alcalis, le sel et les réactifs organiques.
Notre suscepteur SiC pour MOCVD est conçu pour garantir le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire, assurant l'uniformité du profil thermique. Il empêche toute contamination ou diffusion d'impuretés, assurant une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce de plaquette.

Paramètres du suscepteur SiC pour MOCVD

Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC
Propriétés SiC-CVD
Structure en cristal	Phase β FCC
Densité	g/cm³	3.21
Dureté	Dureté Vickers	2500
Taille d'un grain	μm	2~10
Pureté chimique	%	99.99995
Capacité thermique	J·kg-1 ·K-1	640
Température de sublimation	℃	2700
Force Felexurale	MPa (RT 4 points)	415
Module de Young	Gpa (pli 4pt, 1300â)	430
Dilatation Thermique (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivité thermique	(W/mK)	300

Caractéristiques du suscepteur SiC pour MOCVD

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire
- Garantir l'uniformité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés