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Supports de plaque revêtus SiC pour MOCVD

Supports de plaque revêtus SiC pour MOCVD

Semicorex SiC Coated Plate Carriers for MOCVD est un support de haute qualité conçu pour être utilisé dans le processus de fabrication de semi-conducteurs. Sa grande pureté, son excellente résistance à la corrosion et même son profil thermique en font un excellent choix pour ceux qui recherchent un support capable de résister aux exigences du processus de fabrication des semi-conducteurs.

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Description du produit

Nos supports de plaque revêtus de SiC pour MOCVD présentent une grande pureté, ce qui en fait un excellent choix pour ceux qui recherchent un support hautement uniforme et cohérent dans ses propriétés.
Nos porte-plaques revêtus SiC pour MOCVD sont fabriqués avec un revêtement en carbure de silicium de haute pureté sur graphite, ce qui le rend très résistant à l'oxydation à des températures élevées jusqu'à 1600°C. Le procédé de dépôt chimique en phase vapeur CVD utilisé dans sa fabrication garantit une grande pureté et une excellente résistance à la corrosion. Il est hautement résistant à la corrosion, avec une surface dense et de fines particules, ce qui le rend résistant aux acides, aux alcalis, au sel et aux réactifs organiques. Sa résistance à l'oxydation à haute température assure une stabilité à haute température jusqu'à 1600°C.


Paramètres des supports de plaque revêtus de SiC pour MOCVD

Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC

Propriétés SiC-CVD

Structure en cristal

Phase β FCC

Densité

g/cm³

3.21

Dureté

Dureté Vickers

2500

Taille d'un grain

μm

2~10

Pureté chimique

%

99.99995

Capacité thermique

J·kg-1 ·K-1

640

Température de sublimation

2700

Force Felexurale

MPa (RT 4 points)

415

Module de Young

Gpa (pli 4pt, 1300â)

430

Dilatation Thermique (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conductivité thermique

(W/mK)

300


Caractéristiques du suscepteur en graphite revêtu de SiC pour MOCVD

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire
- Garantir l'uniformité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés




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