Tube de four à diffusion SiC

Haute résistance à la flexion : le tube du four à diffusion Semicorex SiC possède une résistance à la flexion supérieure à 200 MPa, garantissant des performances mécaniques exceptionnelles et une intégrité structurelle dans des conditions de contraintes élevées typiques des processus de fabrication de semi-conducteurs.

Résistance à l'oxydation exceptionnelle : ces tubes de four à diffusion SiC présentent une résistance à l'oxydation supérieure, la meilleure parmi toutes les céramiques non oxydées. Cette caractéristique garantit une stabilité et des performances à long terme dans des environnements à haute température, réduisant ainsi le risque de dégradation et prolongeant la durée de vie opérationnelle des tubes.

Excellente résistance à la corrosion : l'inertie chimique du tube du four à diffusion SiC offre une excellente résistance à la corrosion, ce qui rend ces tubes idéaux pour une utilisation dans les environnements chimiques difficiles souvent rencontrés dans le traitement des semi-conducteurs.

Haute résistance à l'usure : le tube du four à diffusion SiC est très résistant à l'usure, ce qui est crucial pour maintenir la stabilité dimensionnelle et réduire les besoins de maintenance sur des périodes d'utilisation prolongées dans des conditions abrasives.

Faible coefficient de friction : le faible coefficient de friction du tube du four à diffusion SiC réduit l'usure des tubes et des tranches, garantissant un fonctionnement fluide et minimisant les risques de contamination pendant le traitement des semi-conducteurs.

Propriétés mécaniques supérieures à haute température : le tube de four à diffusion SiC présente les meilleures propriétés mécaniques à haute température parmi les matériaux céramiques connus, notamment une résistance et une résistance au fluage exceptionnelles. Cela le rend particulièrement adapté aux applications nécessitant une stabilité à long terme à des températures élevées.

Avec revêtement CVD : le revêtement SiC par dépôt chimique en phase vapeur Semicorex (CVD) atteint un niveau de pureté supérieur à 99,9995 %, avec une teneur en impuretés inférieure à 5 ppm et des impuretés métalliques nocives inférieures à 1 ppm. Le processus de revêtement CVD garantit que les tubes répondent aux exigences strictes d'étanchéité au vide de 2-3Torr, essentielles pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs de haute précision.

Application dans les fours à diffusion : ces tubes de four à diffusion SiC sont spécialement conçus pour être utilisés dans les fours à diffusion, où ils jouent un rôle essentiel dans les processus à haute température tels que le dopage et l'oxydation. Leurs propriétés matérielles avancées garantissent qu’ils peuvent résister aux conditions exigeantes de ces processus, améliorant ainsi l’efficacité et la fiabilité de la production de semi-conducteurs.