Aileron SiC

Semicorex SiC Fin est un composant haute performance composé decéramique de carbure de silicium, il est conçu pour être utilisé dans les systèmes d'épitaxie et de gravure de semi-conducteurs. Conçu comme une pièce circulaire en forme de disque avec divers trous percés de différents diamètres, le SiC Fin est un composant essentiel pour la configuration de l'écoulement des matériaux et la gestion des gaz d'échappement ou des effluents liquides lors du traitement à haute température ou au plasma. En raison de ses performances structurelles, de son excellente résistance à la corrosion et de sa stabilité thermique élevée, le SiC Fin est essentiel pour la fabrication avancée de semi-conducteurs.

SiC Fin est fabriqué à partir de haute puretécarbure de siliciumpoudre utilisant des procédés avancés de formage et de frittage. Ainsi, il présente une excellente résistance mécanique et une excellente stabilité dans des conditions thermiques et chimiques élevées. Les propriétés physiques uniques du carbure de silicium, telles qu'une dureté élevée, une faible dilatation thermique et une excellente inertie chimique, permettent au Fin d'être un composant structurel dans les environnements de plasma ou de gaz réactifs à haute température, caractéristiques des processus EPI et de gravure.

La structure en disque du composant, dotée de trous percés avec précision, permet des flux contrôlés de gaz et de liquides dans les chambres de traitement. Selon l'application, les trous peuvent être configurés pour gérer le flux de sous-produits ou le drainage pour un environnement propre et stable pendant le processus de fabrication des plaquettes. Dans une application d'épitaxie, par exemple, le SiC Fin peut aider à diriger les gaz de traitement ou les flux de condensats, améliorant ainsi l'uniformité du film et minimisant la contamination par les particules. Dans les outils de gravure, il est efficace pour l’élimination sûre et efficace des espèces réactives et des sous-produits liquides protégeant les composants vulnérables de la chambre contre la dégradation chimique.

Chaque aileron Semicorex SiC est fabriqué avec des tolérances très serrées et poli pour offrir une excellente planéité de surface et une précision dimensionnelle. Cette précision de fabrication garantit des performances fiables lors de l'intégration dans des systèmes complexes et le maintien d'une fonctionnalité cohérente pendant de longues périodes de fonctionnement. Le SiC Fin est compatible avec toutes les conceptions de réacteurs et peut être fabriqué sur mesure en termes de diamètre, d'épaisseur et de configuration de trous pour répondre aux besoins des clients. Semicorex peut proposer des conceptions personnalisées pour optimiser les performances des variables de processus telles que le débit, la géométrie de la chambre et la température.

En plus de sa fonctionnalité polyvalente, le SiC Fin présente une durabilité et une longévité exceptionnelles par rapport aux autres matériaux. Il est très résistant à l’oxydation, à l’érosion plasma et à la corrosion chimique, ce qui réduit la fréquence de remplacement de vos pièces et diminue les temps d’arrêt du système. De plus, la conductivité thermique du carbure de silicium permet à la capacité de dissipation de la chaleur de gérer les gradients thermiques dans le dispositif, évitant ainsi les déformations ou les fissures indésirables lors de cycles de température rapides.

Semicorex utilise des fonctionnalités avancéescéramiquecapacités de traitement et de revêtement CVD pour fournir la plus haute pureté et cohérence du SiC Fin produit. Chaque SiC Fin est également inspecté pour la densité, l'uniformité de la microstructure et la perfection de la surface afin de garantir qu'il répond aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs. Il en résulte un composant doté d'une intégrité mécanique et d'une robustesse pour un fonctionnement stable et à long terme dans des environnements extrêmes.

Le Semicorex SiC Fin est le résultat d’une science des matériaux et d’une technologie d’ingénierie de pointe. Non seulement il produit des flux d'échappement et de liquide efficaces, mais il contribue à la propreté et à la fiabilité de l'ensemble des systèmes d'épitaxie et de gravure. Il combine résistance mécanique, stabilité thermique et longévité à la corrosion pour offrir une expérience plus cohérente pour les applications de traitement des semi-conducteurs.