La poudre fine Semicorex SiC est une poudre ultra-fine de haute qualité connue pour sa pureté exceptionnelle et sa distribution granulométrique contrôlée. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
La poudre fine Semicorex SiC est une poudre ultra-fine de haute qualité connue pour sa pureté exceptionnelle et sa distribution granulométrique contrôlée. Cette poudre fine SiC est principalement composée de cristaux de carbure de silicium de type N en phase alpha, garantissant des propriétés matérielles et des performances supérieures dans diverses applications.
La poudre fine SiC présente des niveaux de pureté élevés, minimisant les impuretés et garantissant la cohérence de la composition du matériau. Conçue avec un dopage contrôlé à l'azote (N), la poudre présente une conductivité de type N, ce qui la rend adaptée aux applications nécessitant des propriétés semi-conductrices. La poudre fine SiC présente une distribution granulométrique étroite, permettant une dispersion uniforme et une compacité améliorée du matériau dans divers processus de fabrication.
Applications :
Rodage de céramique, cristal, quartz, verre, etc.
Découpage à la scie à fil de silicium pour semi-conducteur, cristal, quartz, etc.
Matériau de la meule résinoïde, de la meule vitrifiée et de la meule PVA
Matériau de céramique et pièces frittées
Matériau de remplissage rayonnant
Matériaux de revêtement et de placage composite
Caractéristiques
Modèle | Pureté | Densité d'emballage | J10 | D50 | D90 |
SiC-N-S | >6N | <1,7g/cm3 | 100 μm | 300 μm | 500 μm |
SiC-N-M | >6N | <1,3g/cm3 | 500 μm | 1000 μm | 2000 μm |
SiC-N-L | >6N | <1,3g/cm3 | 1000 μm | 1500 μm | 2500 μm |
La poudre fine Semicorex SiC se présente comme une solution matérielle haut de gamme offrant une pureté exceptionnelle, un contrôle précis des propriétés et une applicabilité polyvalente dans diverses industries. Sa combinaison de caractéristiques de haute qualité en fait un choix privilégié pour les applications exigeantes dans la fabrication de semi-conducteurs, les céramiques avancées, les matériaux réfractaires, les abrasifs et les systèmes de support de catalyseur, entre autres.