Électrodes de silicium monocristallin

Électrodes de silicium monocristallinsont généralement installés au sommet de la chambre de gravure, servant d’électrode supérieure. La surface des électrodes de silicium monocristallin présente des microtrous uniformément répartis, qui peuvent délivrer uniformément du gaz de gravure dans la chambre de réaction. Pendant le processus de gravure, ils travaillent avec l’électrode inférieure pour générer un champ électrique uniforme, ce qui contribue à fournir des conditions de fonctionnement idéales pour une gravure de précision.

Sélections minutieuses des matériaux

Semicorex sélectionne du silicium monocristallin de première qualité cultivé par MCZ pour fabriquer des électrodes de silicium monocristallin, offrant des performances et une qualité de produit de pointe.

1. Ultra-haute pureté

Les électrodes de silicium monocristallin Semicorex présentent une ultra-haute pureté supérieure à 99,9999999 %, ce qui signifie que la teneur en impuretés métalliques internes est extrêmement faible.

2. Uniformité exceptionnelle de la résistance

Différent du silicium monocristallin CZ conventionnel, le silicium monocristallin cultivé en MCZ utilisé par Semicorex atteint une uniformité de résistivité inférieure à 5 %. Sa basse résolution. est contrôlé en dessous de 0,02 Ω·cm, moyenne résolution. est compris entre 0,2 et 25Ω·cm, et haute résolution. est compris entre 70 et 90 Ω·cm (une personnalisation est disponible sur demande).

3. Excellente structure matérielle

Le silicium monocristallin cultivé via la méthode MCZ offre une structure plus stable et moins de défauts, ce qui permet aux électrodes de silicium monocristallin Semicorex d'offrir une résistance remarquable à la corrosion par plasma et de résister à des conditions de gravure difficiles.

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Précision de traitement de haut niveau

Semicorexsilicium monocristallinles électrodes sont fabriquées selon un processus de production complet, du lingot de silicium au produit fini, comprenant le tranchage, le meulage de surface, le perçage de trous, la gravure humide et le polissage de surface. Semicorex maintient un contrôle de précision rigoureux à chaque étape pour garantir que le diamètre, l'épaisseur, la planéité de la surface, l'espacement des trous et l'ouverture des électrodes sont maintenus dans des tolérances idéales.

1. Traitement des microtrous

Les micro-trous des électrodes en silicium monocristallin présentent un espacement uniforme et des diamètres constants (allant de 0,2 à 0,8 mm), avec des parois intérieures lisses et sans bavures. Cela garantit efficacement un approvisionnement uniforme et stable en gaz de gravure, garantissant ainsi l'uniformité et la précision de la gravure des plaquettes.

2. Précision du traitement

La précision de traitement des électrodes de silicium monocristallin Semicorex est contrôlée à moins de 0,3 mm, et leur précision de polissage peut être strictement contrôlée en dessous de 0,1 µm, et le broyage fin est inférieur à 1,6 µm.