Semicorex est votre partenaire pour l'amélioration du traitement des semi-conducteurs. Nos revêtements en carbure de silicium sont denses, résistants aux températures élevées et aux produits chimiques, et sont souvent utilisés dans tout le cycle de fabrication des semi-conducteurs, y compris le traitement des plaquettes de semi-conducteurs et la fabrication des semi-conducteurs.
Les composants céramiques SiC de haute pureté sont essentiels aux processus dans les semi-conducteurs. Notre offre s'étend des pièces consommables pour les équipements de traitement de plaquettes, telles que les bateaux à plaquettes en carbure de silicium, les palettes en porte-à-faux, les tubes, etc. pour l'épitaxie ou le MOCVD.
Avantages pour les procédés semi-conducteurs
Les phases de dépôt de couches minces telles que l'épitaxie ou le MOCVD, ou les traitements de manipulation de plaquettes tels que la gravure ou l'implantation ionique doivent supporter des températures élevées et un nettoyage chimique agressif. Semicorex fournit une construction en carbure de silicium (SiC) de haute pureté offrant une résistance thermique supérieure et une résistance chimique durable, ainsi qu'une uniformité thermique uniforme pour une épaisseur et une résistance constantes de la couche épi.
Couvercles de chambre →
Les couvercles de chambre utilisés dans le traitement de la croissance cristalline et de la manipulation des plaquettes doivent résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif.
Pagaie en porte-à-faux →
La palette en porte-à-faux est un composant crucial utilisé dans les processus de fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans les fours de diffusion ou LPCVD lors de processus tels que la diffusion et le RTP.
Tube de traitement →
Process Tube est un composant crucial, spécifiquement conçu dans diverses applications de traitement de semi-conducteurs telles que RTP et diffusion.
Bateaux à plaquettes →
Wafer Boat est utilisé dans le traitement des semi-conducteurs, il a été méticuleusement conçu pour garantir la sécurité des plaquettes délicates pendant les étapes critiques de la production.
Anneaux d'entrée →
Anneau d'entrée de gaz recouvert de SiC par équipement MOCVD. La croissance du composé présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, ce qui présente une grande stabilité dans un environnement extrême.
Bague de mise au point →
Semicorex fournit une bague de mise au point recouverte de carbure de silicium qui est vraiment stable pour le RTA, le RTP ou le nettoyage chimique agressif.
Mandrin à plaquettes →
Les mandrins de plaquettes sous vide en céramique ultra-plats Semicorex sont recouverts de SiC de haute pureté et utilisés dans le processus de manipulation des plaquettes.
Semicorex propose également des produits céramiques en alumine (Al2O3), nitrure de silicium (Si3N4), nitrure d'aluminium (AIN), zircone (ZrO2), céramique composite, etc.
Le manchon Si3N4 de Semicorex est un matériau polyvalent et haute performance qui offre une combinaison unique de faible densité, de dureté supérieure, d'excellente résistance à l'usure et de stabilité thermique et chimique exceptionnelle.**
En savoir plusenvoyer une demandeLa fonction principale du mandrin à vide en céramique poreuse Semicorex réside dans sa capacité à fournir une perméabilité uniforme à l'air et à l'eau, une caractéristique qui garantit une répartition uniforme des contraintes et une adhérence robuste des plaquettes de silicium. Cette caractéristique est cruciale lors du processus de meulage, car elle empêche le glissement de la plaquette, préservant ainsi l'intégrité de l'opération.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe tube d'alumine Semicorex est un composant essentiel dans une variété d'applications industrielles, réputé pour sa capacité à résister aux environnements difficiles et aux températures élevées.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe disque en céramique PBN de Semicorex est synthétisé par un processus complexe de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), utilisant du trichlorure de bore (BCl3) et de l'ammoniac (NH3) à des températures élevées et à basses pressions. Cette méthode de synthèse permet d'obtenir un matériau d'une pureté et d'une intégrité structurelle exceptionnelles, ce qui le rend indispensable pour une variété d'applications au sein de l'industrie des semi-conducteurs.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe creuset Semicorex ZrO2 est fabriqué à partir de céramique de zircone stabilisée, présentant une composition standard de 94,7 % de dioxyde de zirconium (ZrO2) et 5,2 % d'oxyde d'yttrium (Y2O3) en pourcentage en poids, ou alternativement, 97 % de ZrO2 et 3 % de Y2O3 en pourcentage molaire. Cette formulation précise confère au creuset ZrO2 une suite de caractéristiques avantageuses qui répondent spécifiquement aux exigences des processus industriels de haute performance.**
En savoir plusenvoyer une demandeLa lame de coupe Semicorex Al2O3 a été méticuleusement conçue pour répondre aux exigences rigoureuses des processus de coupe dans un large éventail d'industries, y compris, mais sans s'y limiter, les films et feuilles, les applications médicales et l'assemblage complexe de composants électroniques.**
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