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Support de plaquette de silicium

Semicorex fournit des céramiques de qualité semi-conducteur pour vos outils de semi-fabrication OEM et vos composants de manipulation de tranches en se concentrant sur les couches de carbure de silicium dans les industries des semi-conducteurs. Nous sommes fabricant et fournisseur de Silicon Wafer Carrier depuis de nombreuses années. Notre Silicon Wafer Carrier a un bon avantage de prix et couvre la plupart des marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Plaque de support en graphite RTP

La plaque de support en graphite RTP de Semicorex est la solution parfaite pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs, y compris la croissance épitaxiale et le traitement de manipulation de tranches. Notre produit est conçu pour offrir une résistance à la chaleur et une uniformité thermique supérieures, garantissant que les suscepteurs d'épitaxie sont soumis à l'environnement de dépôt, avec une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion.

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Support RTP pour la croissance épitaxiale MOCVD

Le support Semicorex RTP pour la croissance épitaxiale MOCVD est idéal pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs, y compris la croissance épitaxiale et le traitement de manipulation de tranches. Les suscepteurs en graphite de carbone et les creusets en quartz sont traités par MOCVD à la surface du graphite, de la céramique, etc. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Support de plaquette pour le processus de gravure ICP

Le porte-wafers de Semicorex pour le processus de gravure ICP est le choix parfait pour les processus exigeants de manipulation de wafers et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux pour des résultats cohérents et fiables.

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Graphite enduit de carbone de silicium d'ICP

L'ICP Silicon Carbon Coated Graphite de Semicorex est le choix idéal pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux.

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Système de gravure au plasma ICP pour le processus PSS

Choisissez le système de gravure au plasma ICP de Semicorex pour le processus PSS pour des processus d'épitaxie et MOCVD de haute qualité. Notre produit est conçu spécifiquement pour ces processus, offrant une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.

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Voulez-vous acheter Substrate-Holder avancé et durable ? Semicorex est certainement votre bon choix. Nous sommes reconnus comme l'un des fabricants et fournisseurs Substrate-Holder les plus compétitifs en Chine. Nous fournissons également des emballages en vrac. Vous pouvez avoir besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins réels de votre région, vous pouvez nous laisser un message via les informations de contact sur la page Web. Nous invitons sincèrement les nouveaux et anciens clients à visiter notre usine pour consultation et négociation.