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Système de gravure au plasma ICP

Le support revêtu de SiC de Semicorex pour le système de gravure au plasma ICP est une solution fiable et économique pour les processus de manipulation de tranches à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Nos supports sont dotés d'un revêtement en cristal SiC fin qui offre une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.

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Porte-plaquette de gravure ICP

Le support de plaquette de gravure ICP de Semicorex est la solution parfaite pour les processus de manipulation de plaquettes à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Avec une résistance stable à l'oxydation à haute température jusqu'à 1600°C, nos supports garantissent des profils thermiques uniformes, des modèles d'écoulement de gaz laminaire et empêchent la contamination ou la diffusion des impuretés.

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Système Epi à baril chauffé par induction pour l'épitaxie LPE

Si vous avez besoin d'un suscepteur en graphite avec des propriétés de conductivité thermique et de répartition de la chaleur exceptionnelles, ne cherchez pas plus loin que le système Epi à baril chauffé par induction Semicorex pour l'épitaxie LPE. Son revêtement SiC de haute pureté offre une protection supérieure dans les environnements à haute température et corrosifs, ce qui en fait le choix idéal pour une utilisation dans les applications de fabrication de semi-conducteurs.

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Structure en barillet pour réacteur épitaxial à semi-conducteurs

Avec ses propriétés exceptionnelles de conductivité thermique et de distribution de la chaleur, la structure cylindrique Semicorex pour réacteur épitaxial à semi-conducteurs est le choix parfait pour une utilisation dans les processus LPE et d'autres applications de fabrication de semi-conducteurs. Son revêtement SiC haute pureté offre une protection supérieure dans les environnements à haute température et corrosifs.

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Suscepteur de barillet en graphite revêtu de SiC

Si vous recherchez un suscepteur en graphite hautes performances pour une utilisation dans des applications de fabrication de semi-conducteurs, le suscepteur à barillet en graphite revêtu de SiC Semicorex est le choix idéal. Ses propriétés exceptionnelles de conductivité thermique et de distribution de la chaleur en font le choix incontournable pour des performances fiables et constantes dans des environnements à haute température et corrosifs.

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Suscepteur cylindrique pour épitaxie en phase liquide

Si vous avez besoin d'un suscepteur en graphite capable de fonctionner de manière fiable et constante même dans les environnements à haute température et corrosifs les plus exigeants, le suscepteur cylindrique Semicorex pour l'épitaxie en phase liquide est le choix parfait. Son revêtement en carbure de silicium offre une excellente conductivité thermique et une excellente répartition de la chaleur, garantissant des performances exceptionnelles dans les applications de fabrication de semi-conducteurs.

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